Пахомов, Сергей. Второе дыхание 193-нм литографии, или Особенности 32-нм техпроцесса [Текст] / Сергей Пахомов> // КомпьютерПресс. - 2009. - N 3. - С. 76-79 : ил. . - ISSN 0868-6157
Рубрики: Вычислительная техника Вычислительная техника в целом Кл.слова (ненормированные): нанотехнологии -- нанометровые технологии -- 32-нанометровые технологии -- литография -- иммерсионная литография -- DUV-литография -- диоксид кремния -- диоксид гафния Аннотация: 32-нм технологии, как и последующие за ними 22-нметровые, будут основаны на DUV-литографии на базе 193-нм лазера. Статья расскажет о том, ка это стало возможным. |
Intel демонстрирует рабочую версию процессора, созданного по 32-нм техпроцессу [Текст]> // КомпьютерПресс. - 2009. - N 3. - С. 80-81 : ил. . - ISSN 0868-6157
Рубрики: Вычислительная техника Блоки обработки данных Кл.слова (ненормированные): процессоры -- 32-нанометровые технологии -- нанотехнологии -- нанометровые технологии -- Westmere Аннотация: О возможностях заглавного типа процессоров, получивших кодовое название Westmere. |