Пахомов, Сергей. Второе дыхание 193-нм литографии, или Особенности 32-нм техпроцесса [Текст] / Сергей Пахомов // КомпьютерПресс. - 2009. - N 3. - С. 76-79 : ил. . - ISSN 0868-6157
Рубрики: Вычислительная техника Вычислительная техника в целом Кл.слова (ненормированные): нанотехнологии -- нанометровые технологии -- 32-нанометровые технологии -- литография -- иммерсионная литография -- DUV-литография -- диоксид кремния -- диоксид гафния Аннотация: 32-нм технологии, как и последующие за ними 22-нметровые, будут основаны на DUV-литографии на базе 193-нм лазера. Статья расскажет о том, ка это стало возможным. |