Первый чип с проектной нормой 65 нанометров [Текст]> // КомпьютерПресс. - 2004. - N 1. - С. . 162-163. - s, 2004, , rus. - НТБ СГТУ. - N 1. - С. 162-163. - calc04_000_001_162_1, 1, 162-163
Рубрики: Вычислительная техника--Проектирование. Архитектура микро-ЭВМ, 2003 г. Кл.слова (ненормированные): транзисторы -- нанотехнологии -- Intel (компания) -- чипсеты -- микросхемы -- полупроводники -- полупроводниковая память Аннотация: Корпорация Intel объявила об изготовлении первой в мире полнофункциональной микросхемы SRAM, в которой использован технологический процесс следующего поколения с проектной нормой 65 нанометров. В этом технологическом процессе используются транзисторы, имеющие длину затвора всего 35 нм. Нет сведений об экземплярах (Источник в БД не найден) |