Главная Упрощенный режим Описание Шлюз Z39.50
Авторизация
Фамилия
Пароль
 

Базы данных


- результаты поиска

Вид поиска

Область поиска
Формат представления найденных документов:
полныйинформационныйкраткий
Отсортировать найденные документы по:
авторузаглавиюгоду изданиятипу документа
Поисковый запрос: (<.>K=алгоритмическое обеспечение<.>)
Общее количество найденных документов : 2
Показаны документы с 1 по 2
1.


    Никонов, В. В.
    Разработка автоматизированной системы выявления нештатной сетевой активности и обнаружения угроз [Текст] = Development of automated systems for identifying network activity and detect threats / В. В. Никонов, В. П. Лось, Г. В. Росс // Проблемы информационной безопасности. Компьютерные системы. - 2016. - № 2. - С. 61-69 : схемы, диагр. - Библиогр.: с. 69 (6 назв.) . - ISSN 2071-8217
УДК
ББК 32.973
Рубрики: Вычислительная техника
   Программирование ЭВМ. Компьютерные программы. Программотехника

Кл.слова (ненормированные):
алгоритмическое обеспечение -- графовые модели -- нештатная сетевая активность -- обнаружение угроз -- программное обеспечение -- программные интерфейсы -- профили сетевой активности -- сетевые угрозы -- сокеты
Аннотация: Рассмотрены особенности реализации системы выявления нештатной сетевой активности. Разработано алгоритмическое и программное обеспечение системы выявления нештатной сетевой активности и обнаружения угроз.


Доп.точки доступа:
Лось, В. П.; Росс, Г. В.
Нет сведений об экземплярах (Источник в БД не найден)

Найти похожие

2.


    Анненков, Андрей Николаевич.
    Развитие моделей и алгоритмического обеспечения системы управления установки нанесения фоторезиста [Текст] / А. Н. Анненков, О. В. Белоусова // Информационные системы и технологии. - 2022. - № 4. - С. 60-68. - Библиогр.: с. 68 (12 назв.) . - ISSN 2072-8964
УДК
ББК 30.6-5-05
Рубрики: Техника
   Автоматизация оборудования

Кл.слова (ненормированные):
автоматизированные установки нанесения фоторезиста -- адгезионные свойства пленки фоторезиста -- алгоритмическое обеспечение -- контролируемая газовая среда -- однородность и целостность фоторезистивного слоя -- пленки фоторезиста -- постоянство ускорения электропривода центрифуги -- системы управления -- топологические параметры
Аннотация: Разработанная система управления технологическим процессом нанесения фоторезиста обеспечивает возможность создания оборудования для выпуска продукции микроэлектроники с высокими технологическими нормами за счет развития моделей и алгоритмического обеспечения системы управления установки нанесения фоторезиста.


Доп.точки доступа:
Белоусова, Олеся Владимировна
Нет сведений об экземплярах (Источник в БД не найден)

Найти похожие

 
© Международная Ассоциация пользователей и разработчиков электронных библиотек и новых информационных технологий
(Ассоциация ЭБНИТ)