Вид документа : Статья из журнала Шифр издания : Автор(ы) : Пахомов, Сергей Заглавие : Второе дыхание 193-нм литографии, или Особенности 32-нм техпроцесса Серия: Аппаратное обеспечение Разночтения заглавия :: Особенности 32-нм техпроцесса Место публикации : КомпьютерПресс. - 2009. - N 3. - С.76-79: ил. - ISSN 0868-6157. - ISSN 0868-6157 УДК : 004 ББК : 32.97 Предметные рубрики: Вычислительная техника Вычислительная техника в целом Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): нанотехнологии--нанометровые технологии--32-нанометровые технологии--литография--иммерсионная литография--duv-литография--диоксид кремния--диоксид гафния Аннотация: 32-нм технологии, как и последующие за ними 22-нметровые, будут основаны на DUV-литографии на базе 193-нм лазера. Статья расскажет о том, ка это стало возможным.