Панченко, Ю. Н. Формирование разряда в XeCl-лазере при высокой удельной мощности накачки [Текст] / Ю. Н. Панченко, В. Ф. Лосев> // Известия вузов. Физика. - 2012. - С. 103-108 : рис. - Библиогр.: c. 108 (18 назв. ) . - ISSN 0021-3411
Рубрики: Радиоэлектроника Импульсные устройства Кл.слова (ненормированные): XeCl-лазер -- КПД лазера -- диффузные каналы -- катодные пятна -- неустойчивость в разряде -- удельная мощность накачки -- устойчивость горения -- электроразрядный эксимерный лазер Аннотация: Исследовано устойчивое горение различных типов разряда в газовой смеси XeCl-лазера в интервале удельной мощности накачки 1, 2-4, 6 МВт/см 3 при длительности импульса 40 нс. Показано, что формирование частично однородной плазмы, с множественными интенсивными катодными пятнами на электроде, позволяет реализовать максимальную энергию и длительность импульса генерации при КПД лазера 2, 4 %. Обнаружено, что при удельной мощности накачки до 1, 5 МВт/см 3 в разрядном промежутке формируется высокооднородный объемный разряд с малым количеством слабоинтенсивных катодных пятен. При дальнейшем повышении удельной мощности накачки более 4, 5 МВт/см 3 в данном типе объемного разряда формируются токовые микронеоднородности, приводящие к прекращению генерации. Доп.точки доступа: Лосев, В. Ф. Нет сведений об экземплярах (Источник в БД не найден) |